台積電研發副總經理林本堅因為在浸潤式微影（Immersion Lithography）技術上的成就，
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，獲頒今年度的國際電機電子工程師學會（IEEE）西澤潤一獎（Jun-ichi Nishizawa Medal）。
林本堅是半導體業界第一位發明以水當成微影介質，
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，讓台積電及其它半導體廠得以開發出浸潤式微影技術，
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，推進半導體製程順利進入28奈米及20奈米世代，
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，因此，
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，IEEE頒發西澤潤一獎項給林本堅，
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，以表彰其對半導體產業的特殊貢獻。
林本堅是1987年在IBM工作時，
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，就提出浸潤式的微影技術概念，
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，2002年時，
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，林本堅已在台積電擔任微影技術研發負責人，當時半導體產業正在思考，當製程技術微縮到90奈米以下時，微影技術該何去何從。
林本堅表示，當時產業界及主要設備廠主要設計出的157nm微影設備，但技術太過複雜，對半導體廠來說製造難度很高，所以，他發現以水作為介質，可讓193nm微影設備延續使用，並可持續推進製程微縮速度。
林本堅說，當初想到用水當成介質，其實只是想到在半導體實務經驗中，水是大家可以普遍接受的材料，隨處都有且不會造成污染，只是沒想到這個想法，後續獲得各家半導體廠認同，均統一採用水作為介質。
台積電自40奈米開始採用浸潤式微影製程，現在量產中的28奈米，以及即將量產的20奈米，均延續採用。林本堅表示，浸潤式微影製程看來可以繼續採用在16奈米及10奈米，成為有史以來，半導體微影製程技術上最長命的技術。
林本堅因為發明浸潤式技術，讓台積電在40奈米之後的技術研發突飛猛進，現在已經能與龍頭大廠英特爾並駕其驅。當然，林本堅帶領的研發部門，2000年員工人數只有50人，但現在已擴大到500人的規模，成為台積電技術研發上的先鋒團隊。
至於台積電下一世代的微影技術研發，林本堅表示，極紫外光（EUV）及多重電子束（Multi e-Beam）仍是選項，EUV的問題在於光源的功耗及每小時可處理的晶圓片數仍不足，因此製造成本仍高於現在採用的多重曝光，至於多重電子束則決定朝向高功耗的技術發展。，